掩膜

作品数：693被引量：1262H指数：12
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一种基于泰伯子像的光刻系统并由期望图案设计掩膜板的方法
《集成电路应用》2019年第11期5-7,共3页荣南楠 张宝昊 何张登 刘帅 李凯强 吕俊君 
重庆市科技企业科技创新课题项目
提出一种基于泰伯效应利用泰伯子像实现光刻,并利用反演光刻技术由期望图案设计掩膜板的方 法。泰伯子像是在分数倍泰伯距离上出现的一种像元倍增且呈棋盘状分布的自成像。根据菲涅耳衍射理 论分析可知,泰伯子像是两种泰伯像在同一平面...
关键词：泰伯效应 泰伯子像 掩膜板 Talbot 光刻机 
55 nm低功耗产品漏电流优化的机理研究及解决方案
《集成电路应用》2018年第2期49-51,共3页吴智勇 
上海市软件和集成电路产业发展专项基金(2015.150204)
半导体技术随着摩尔定律,工艺尺寸逐渐缩小,浅沟槽形貌对增加低功耗产品器件间的隔离效果,降低漏电流的作用越来越敏感^([1])。提出一种全新的优化浅沟槽形貌,降低器件间漏电流的设计理念^([2])及实现方法。通过软件设计并模拟不同浅沟...
关键词：集成电路制造 浅沟槽刻蚀 硬掩膜 工作区 漏电流 POLYMER 聚合物 
半导体材料国产替代,打造中国“芯”时代被引量：3
《集成电路应用》2015年第12期23-27,共5页许兴军 
集成电路产业的发展需要建立完善的材料体系,这是我国走向半导体强国的必经之路,《国家集成电路产业发展推进纲要》对上游材料提出了具体发展目标。本文从产业层面分析,材料是产业发展的基础和先导,我国上游配套材料国产化率低、规模小...
关键词：半导体材料 国产化 晶圆片 掩膜版 光刻胶 CMP材料 
Micronic致力于激光光掩膜市场
《集成电路应用》2008年第11期23-23,共1页
Micronic Laser Systems AB日前在上海举行的年度技术研讨会上特别介绍了其针对中国本地市场新推出的新型激光绘图仪FPS5300,更具弹性选用配置的FPS5300有着更高的分辨率和更精确的图形控制,适用于先进封装及其他电子产品应用的大尺寸...
关键词：本地市场 掩膜 激光 SYSTEMS 技术研讨会 图形控制 选用配置 产品应用 
掩膜级测量为闪存设计预测成像质量
《集成电路应用》2008年第11期26-29,32,共5页E.van Setten O.Wismans K.Grim J.Finders M.Dusa R.Birkner R.Richter T.Scherübl 
闪存不断推动着器件尺寸等比例缩小的进程,高数值孔径浸没式光刻使得45nm及以下技术节点成为可能。一些掩膜参数对于成像性能有很重要的影响,并且曝光前掩膜的空间成像可以用于定义成像质量。
关键词：成像质量 闪存 掩膜 预测 设计 测量 高数值孔径 器件尺寸 
电子束光刻胶
《集成电路应用》2008年第10期45-45,共1页
XR-1541电子束光刻胶专为实现下一代直写光刻工艺技术开发所设计。先进的旋涂式光刻胶产品系列是以电子束取代传统光源产生光刻图案，可提供图形小至6纳米的无掩膜光刻技术能力。
关键词：光刻胶 电子束 技术开发 光刻工艺 技术能力 旋涂 掩膜 
凸版印刷与IBM合作开发22纳米光掩膜
《集成电路应用》2008年第8期15-15,共1页
来自上海凸版（Toppan）光掩膜有限公司消息，日本凸版印刷株式会社近日宣布，已与IBM签署新的开发合约，它涵盖了后期的32纳米和全部22纳米光掩膜工艺开发。该项联合开发于2008年6月开始，在IBM的英国艾塞克斯郡的柏灵敦工厂进行。在...
关键词：凸版印刷株式会社 合作开发 32纳米 IBM 掩膜 工艺开发 膜工艺 
IBM、Toppan将光掩膜研发延伸到22nm
《集成电路应用》2008年第7期22-22,共1页
IBM与日本凸版印刷（Toppan Printing）日前宣布达成新的光掩膜合作开发协议，并纳入22nm光掩膜工艺计划。
关键词：IBM 掩膜 研发 凸版印刷 合作开发 工艺计划 
EUV掩膜版清洗——Intel的解决之道被引量：2
《集成电路应用》2008年第6期I0001-I0001,共1页Aaron Hand 
对于极紫外（EUV）光刻技术而言，掩膜版相关的一系列问题是其发展道路上必须跨越的鸿沟．而在这些之中又以如何解决掩膜版表面多层抗反射膜的污染问题最为关键。自然界中普遍存在的碳和氧元素对于EUV光线具有极强的吸收能力，在Texas州...
关键词：掩膜版 EUV 清洗 表面预处理 光刻技术 污染问题 抗反射膜 吸收能力 
光掩模相位测试设备
《集成电路应用》2008年第1期61-61,共1页
高分辨率独立光掩模相位测试系统Phame能够对193纳米的光掩模进行测试。这套系统用于测量和分析高端相移掩膜版的实际相移表现。它使用户能够直接测试那些被曝光在硅片上的器件所对应掩膜版的图形表现。系统可以获得诸如3-D掩膜版效应...
关键词：测试设备 光掩模 相位 测试系统 掩膜版 高分辨率 图形表现 直接测试 
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