CMP

作品数：980被引量：2024H指数：17
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铜互连CMP工艺技术分析
《集成电路应用》2024年第7期78-79,共2页宋红伟 宋洁晶 秦龙 
阐述CMP设备抛光头压力和抛光液中H_(2)O_(2)浓度对TSV工艺面铜去除速率和平坦化的影响。分析发现,粗抛压力3.0psi、精抛压力1.0psi、H_(2)O_(2)浓度2wt%时CMP加工效率高且通孔碟坑深度≤0.5μm。
关键词：集成电路制造 TSV CMP 去除速率 平坦化 
多晶硅CMP制程后清洗工艺研究与改善被引量：1
《集成电路应用》2021年第7期48-51,共4页李儒兴 程君 李协吉 
上海市经济和信息化委员会软件和集成电路产业发展专项基金(1500223)。
阐述嵌入式非易失性存储器芯片制造流程中的多晶硅化学机械研磨(CMP)后清洗工艺对随后的多晶硅蚀刻工艺的影响。研究发现CMP的后清洗过程对多晶硅表面的自然氧化层的生长具有显著的影响,从而成为蚀刻后多晶硅源线线宽(CD)的重要影响因...
关键词：集成电路制造 多晶硅 化学机械研磨 后清洗 线宽 自然氧化层 
APC在Direct STI CMP中的应用研究被引量：2
《集成电路应用》2021年第5期29-31,共3页石强 李儒兴 李协吉 
上海市经济和信息化委员会软件和集成电路产业发展专项基金(1700223)。
通过APC(Advance Process Control)的建模和研磨实验,研究了APC的闭环控制(Close Loop Control)和开环控制(Open Loop Control)在DSTI CMP(Direct STI CMP)制程中的应用。比较了固定时间、终点监测和闭环APC控制下的氮化硅去除量及晶圆...
关键词：集成电路制造 APC DSTI CMP 闭环控制 开环控制 
集成电路制造中的化学机械抛光CMP国产设备应用
《集成电路应用》2021年第1期1-3,共3页王智 王哲 曹孟云 
上海市经济和信息化委员会软件和集成电路产业发展专项基金(1500204)。
化学机械抛光CMP工艺是集成电路制造的核心技术,90%以上的高端CMP机台设备和抛光液、抛光垫等关键耗材均被国外供应商垄断。阐述CMP国产设备与大尺寸晶圆片生产线的有效结合,达到产学研合作攻关的目的,有利于快速提升我国CMP工艺设备水...
关键词：集成电路制造 晶圆 化学机械研磨 
安集微电子CMP研磨液打破外国垄断
《集成电路应用》2017年第4期24-24,共1页
在芯片生产过程中,有一道重要的工序,化学机械抛光（Chemical-Mechanical Polishing）,又称化学机械平坦化（Chemical-Mechanical Planarization,缩写CMP）,加工中要用到一种化学添加剂,也就是研磨液。研磨液是平坦化工艺中研磨材料和...
关键词：化学机械抛光 研磨材料 平坦化 CMP 化学添加剂 氧化铈 芯片生产 金属铜 金属钨 王淑敏 
陶氏电子材料CMP制造中心更接近亚洲客户
《集成电路应用》2009年第4期11-11,共1页
在SEMICON China 2009上,陶氏电子材料(原罗门哈斯电子材料)半导体技术部(原CMP技术部)展示了最新的包括研磨垫、抛光液等产品,以及全新的亚太制造和技术中心生产线,并宣布位于台湾新竹的亚洲制造中心已经获得IC1000TM系列研磨垫的大单...
关键词：电子材料 制造中心 亚洲 CMP 
Entrepix寻求CMP外包服务的机遇
《集成电路应用》2009年第4期11-11,共1页
Entrepix是化学机械研磨(CMP)及有关过程的外包和装备服务的首要供应商,Entrepix CEO Tim Tobin指出,制造商需要集中于核心竞争力以获取最大化的价值和服务,通过CMP外包服务可以共享资源和长期的盈利,亚太区尤其是中国快速成长的产品多...
关键词：外包服务 Entrepix CMP 
泵诱导颗粒效应对低k CMP缺陷密度的影响
《集成电路应用》2008年第11期5-5,共1页
在绝缘材料和金属材料的化学机械抛光（CMP）工艺中,抛光液中的超大颗粒是最重要的缺陷来源之一。在增加并散布这种超大颗粒的过程中,抛光液分配系统和泵系统扮演了重要角色。容积泵所产生的高切应力会扩大大尺寸颗粒的分布，导致CMP工...
关键词：缺陷密度 大颗粒 CMP 泵系统 诱导 化学机械抛光 表面粗糙度 金属材料 
CMP工艺参数改进被引量：1
《集成电路应用》2008年第11期39-42,共4页Ruth DeJule 
为CMP提供消耗品的供应商正在开发新的方法,在维持研磨去除率不变的情况下,改善平整度和缺陷率,同时降低成本,来满足未来应用的要求。
关键词：CMP 工艺参数 供应商 消耗品 去除率 缺陷率 平整度 低成本 
新产品
《集成电路应用》2008年第9期49-49,共1页
流体污染过滤器;CMP平台;压印光刻工具;透明膜量测工具;太阳能电池仿真软件.
关键词：产品 太阳能电池 流体污染 压印光刻 仿真软件 过滤器 CMP 透明膜 
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