冷俊林

作品数：12被引量：21H指数：3
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供职机构：中国电子科技集团第二十六研究所更多>>
发文主题：声表面波器件薄膜体声波谐振器压电薄膜声表面波体声波更多>>
发文领域：电子电信一般工业技术电气工程更多>>
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陶瓷封装SAW滤波器除金工艺研究
《压电与声光》2024年第5期695-699,共5页唐盘良 李亚飞 黄莹 张钧翀 冷俊林 马晋毅 
针对陶瓷封装声表面波(SAW)滤波器焊盘除金问题,提出了载板搪锡工艺的解决方案。通过制作外扩焊盘的搪锡载板进行滤波器批量贴装,在加热台上进行回流以溶解焊盘镀金层,取下上锡器件后用真空吸锡枪吸去焊盘表面焊锡,即可达到除金目的。...
关键词：陶瓷封装 声表面波(SAW)滤波器 搪锡 除金 可靠性 
3.4 GHz频率的S波段SAW滤波器
《压电与声光》2022年第2期199-201,共3页白涛 董加和 马晋毅 蒋世义 郑泽渔 陈尚权 米佳 冷俊林 陈彦光 杨桃均 刘建国 
该文研制了一款频率3.4 GHz的S波段声表面波(SAW)滤波器。该滤波器采用一种由新型谐振器构成的阻抗元结构,能提升抗热释电静电损伤能力,用时可在一定程度上提升器件的功率承受能力。同时研制了尺寸为2.0 mm×1.6 mm的芯片级封装(CSP)基...
关键词：声表面波(SAW)滤波器 S波段 芯片级封装(CSP) 
压电单晶薄膜衬底光刻工艺研究被引量：2
《压电与声光》2021年第4期583-586,共4页唐代华 潘祺 米佳 冷俊林 唐塽 何西良 黎妮 
单晶薄膜声表面波(SAW)滤波器因其低损耗,低频率温度系数及大带宽而成为高性能SAW滤波器未来发展的方向。针对单晶薄膜衬底反射带来的换能器指条锯齿和均匀性恶化的问题,该文采用了有机抗反射膜工艺,通过控制抗反射膜的膜厚将衬底的相...
关键词：压电单晶薄膜衬底 抗反射膜 光刻 伯德Q值 
一种窄带温补型声表面波滤波器被引量：3
《压电与声光》2020年第1期67-70,共4页冷俊林 董加和 陆川 陈运祥 李桦林 陈尚权 彭霄 寇俊 唐永红 米佳 
国家科技攻关计划基金资助项目
该文介绍了一种频率温度系数接近0的窄带温补型声表面波滤波器。该滤波器采用黑化的42°Y-X钽酸锂为衬底,温度补偿层材料采用二氧化硅薄膜,利用化学机械抛光二氧化硅薄膜法获得了平坦表面形貌。制作了温补型声表面波滤波器样品并进行了...
关键词：声表面波滤波器 温补型声表面波 频率温度系数 
干法刻蚀条件对Mo侧壁角度的影响被引量：3
《压电与声光》2016年第2期199-202,206,共5页田本朗 徐阳 曹家强 杜波 马晋毅 米佳 冷俊林 
该文介绍了F基气体电感耦合等离子体（ICP）干法刻蚀系统对金属Mo薄膜侧壁角度的影响。通过调节ICP干法刻蚀设备的射频功率、ICP离子源功率、腔体气压、SF6及Ar的气体流量等工艺参数,实现了30.3°～51.6°的侧壁倾角,为薄膜体声波谐振器...
关键词：干法刻蚀 气体电感耦合等离子体(ICP) MO 薄膜体声波谐振器(FBAR) 侧壁角度 
ZnO/蓝宝石结构声表面波滤波器试验研究被引量：2
《压电与声光》2015年第6期954-956,共3页董加和 陈运祥 冷俊林 张显洪 张永川 王岚 王洁 
总装预研基金资助项目(9140A23070312DZ3602)
该文从理论上计算得到了ZnO(a面)/蓝宝石(r面)结构的声表面波相速度和机电耦合系数色散曲线。依据该色散曲线设计了ZnO(a面)/蓝宝石(r面)结构声表面波滤波器。采用在蓝宝石衬底上先制备ZnO薄膜然后再制作芯片结构的方案研制出了声表面...
关键词：声表面波滤波器 蓝宝石 相速度 机电耦合系数 ZnO膜 
2 GHz宽带低损耗SAW滤波器的研制
《压电与声光》2014年第1期16-18,共3页蒋欣 金剑 冷俊林 蒋世义 董加和 胡杨 刘晓莉 
利用射频电路模拟软件中构建的声表面波(SAW)低损耗滤波器设计工具,对S波段SAW滤波器的设计技术展开研究。通过建立集总参数模型,分析高频下封装效应对滤波器性能的影响,并成功研制出中心频率达2.2GHz,最小插入损耗为-3dB,相对带宽达到7...
关键词：S波段 声表面波滤波器 低损耗 
晶圆探针测试系统校准
《压电与声光》2013年第3期441-444,共4页伍平 董姝 杜波 冷俊林 刘晓莉 刘善群 王岚 
阐述了消除探针测试系统误差的方法,通过分析校准原理和计算校准模型,提出了把已知的校准位放在校准基片上,通过修改网络分析仪(VNA)的校准位和信号接收端口,利用探针台的移动和探针与校准位的接触提取和反馈信号,修正系统误差。
关键词：校准基片 误差修正 系统误差 
声表面波器件制作中的一种剥离技术被引量：2
《压电与声光》2012年第2期163-165,168,共4页杨正兵 冷俊林 曾武 刘晓莉 朱明 陈峻 
介绍了一种适用于LiTaO3、LiNbO3基片的金属剥离工艺技术。该剥离技术利用碱性溶剂浸泡处理光刻胶,光刻胶顶层形成一层有利于剥离的突出遮蔽层。利用该技术可制作线宽小于0.5μm的SAW芯片。该技术无需额外设备,工艺稳定且成本低。
关键词：声表面波 表面处理 剥离工艺 
硅各向异性浅槽腐蚀实验研究被引量：4
《压电与声光》2011年第4期513-516,519,共5页杨增涛 冷俊林 梅勇 黄磊 杨正兵 李燕 刘晓莉 
通过实验分析,对比了异丙醇(IPA)和超声波对Si(100)面在KOH溶液和四甲基氢氧化氨(TMAH)溶液中的浅槽腐蚀速率及其表面形态的影响。实验结果表明,IPA能降低TMAH溶液的腐蚀速率,但IPA在KOH溶液中腐蚀速率降低不明显;IPA加入到较高浓度的KO...
关键词：各向异性腐蚀 Si浅槽 KOH 四甲基氢氧化氨(TMAH) 
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