云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 马杰

马杰: 作品数：10被引量：35H指数：4; 导出分析报告; 供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>; 发文主题：电子束光刻X射线光刻MM衍射效率透射光栅更多>>; 发文领域：电子电信理学机械工程自动化与计算机技术更多>>; 发文期刊：《物理学报》《Journal of Semiconductors》《光学学报》《微细加工技术》更多>>; 所获基金：国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家科技重大专项更多>>

2000lp/mm X射线透射变栅距光栅的研究被引量：5: 《光学学报》2010年第6期1857-1860,共4页靳飞飞朱效立李海亮马杰谢常青刘世炳; 国家973计划(2007CB935302);国家重大专项(2008ZX02051-005)资助课题; 针对X射线透射光栅摄谱仪中对高线密度聚焦变栅距光栅的需要,利用电子束光刻技术,研制了X射线透射变栅距光栅。利用变栅距光栅的自动生成宏文件程序,优化设计了变栅距光栅的版图,然后利用电子束光刻和微电镀技术在聚酰亚胺薄膜底衬上制...; 关键词：衍射光学变栅距光栅 X射线透射光栅电子束光刻

3333l/mmX射线全镂空自支撑透射光栅的制备与测试被引量：3: 《微纳电子技术》2010年第3期174-178,共5页李海亮马杰朱效立吴坚谢常青陈宝钦刘明; 国家重点基础研究发展计划项目(2007CB935302);国家高技术研究发展计划(2008AA8040208);国家自然科学基金(60825403); 针对我国对高线密度X射线镂空透射光栅在空间环境探测和激光等离子体诊断方面的需求,将电子束光刻和X射线光刻技术相结合,制备出3333l/mmX射线全镂空透射光栅,栅线宽度接近150nm,周期300nm,栅线厚度为500nm,有效光栅面积达到60%。首先...; 关键词：镂空透射光栅电子束光刻 X射线光刻微电镀衍射效率

自支撑透射光栅的设计、制作和测试被引量：4: 《物理学报》2010年第4期2564-2570,共7页马杰谢常青叶甜春刘明; 国家重点基础研究发展计划(批准号:2007CB935302,2006CB806204);国家自然科学基金(批准号:60825403)资助的课题~~; 采用标量衍射理论和严格耦合波理论分别计算和讨论了金自支撑透射光栅的衍射效率随波长和光栅周期变化的情况并设计了光栅的结构参数.制作了周期为300nm、线宽/周期比为0.55、厚度为200nm、总面积为1mm×1mm、有效面积比为65%的金自支...; 关键词：自支撑透射光栅电子束光刻电镀

带支撑结构的大高宽比硬X射线波带片制作被引量：8: 《光电工程》2009年第10期30-34,共5页马杰曹磊峰谢常青吴璇李海亮朱效立刘明陈宝钦叶甜春; 国家重点基础研究发展规划(2007CB935302);教育部创新计划同步辐射研究生创新基金(批准号20070133S)资助项目; 对利用X射线光刻制作大高宽比硬X射线波带片的设计和制作工艺进行了研究。采用电子束光刻制作X射线光刻掩模,并利用X射线光刻制作最终的硬X射线波带片。采用对光刻胶结构加入支撑点的方法,大大提高了X射线光刻制作硬X射线波带片的高宽...; 关键词：大高宽比 x射线波带片 X射线光刻衍射效率

用于非球面测试的位相型计算全息图制作: 《微细加工技术》2008年第6期7-8,11,共3页马杰朱效立谢常青叶甜春赵珉刘明陈宝钦朱日宏高志山马骏; 国家重点基础研究发展规划资助项目(2007CB935302);中国高技术发展研究计划资助项目(2006AA03Z355); 本文对计算全息图元件的设计和制作关键技术进行了研究,自行开发了计算全息图元件光刻图形计算机生成算法和软件,研究了采用高速电子束直写系统制作大面积、非周期性复杂光刻图形技术,在此工作的基础上,采用湿法腐蚀铬、感应耦合等离子...; 关键词：非球面测试计算全息图电子束光刻湿法腐蚀感应耦合等离子体刻蚀

大面积10000线/毫米软X射线金属型透射光栅的设计、制作与检测被引量：3: 《物理学报》2008年第10期6386-6392,共7页朱伟忠吴衍青郭智朱效立马杰谢常青史沛熊周洪军霍同林邰仁忠徐洪杰; 国家重点基础研究发展计划(973)项目(批准号:2007CB935302);国家高技术研究发展计划(863)新材料领域(批准号:2006AA03Z355)资助的课题~~; 基于严格的矢量耦合波理论,优化设计了用于13.4 nm软X射线干涉光刻的透射型双光栅掩模版.采用电子束光刻技术,在国内首次成功制作了周期为100 nm的大面积金属型透射光栅.光栅面积为1.5 mm×1.5 mm,Cr浮雕厚度为50 nm,Gap/period为0.6,衬...; 关键词：软X射线金属型透射光栅严格耦合波方法衍射效率软X射线干涉光刻

3333lp/mm X射线透射光栅的研制被引量：11: 《光学学报》2008年第6期1026-1030,共5页朱效立马杰谢常青叶甜春刘明曹磊峰杨家敏张文海; 国家973计划(2007CB935302);国家863计划(2007AA804114)资助课题; 针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。首先利用电子束曝光和微电镀技术在镂空的薄膜上制备母光栅X射线掩模版,然后利用X射线曝光和微电镀技术小批...; 关键词：X射线透射光栅电子束光刻 X射线光刻高线密度光栅

高线密度X射线透射光栅的制作工艺被引量：12: 《Journal of Semiconductors》2007年第12期2006-2010,共5页朱效立马杰曹磊峰杨家敏谢常青刘明陈宝钦牛洁斌张庆钊姜骥赵珉叶甜春; 国家重点基础研究发展规划(批准号:2007CB935302);国家高技术研究发展计划(批准号:2006AA843134);国家自然科学基金(批准号:90607022)资助项目~~; 采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅.首先利用电子束光刻和微电镀技术制备基于镂空薄膜结构的X射线光刻掩模,然后利...; 关键词：电子束光刻透射光栅 X射线光刻 X射线衍射光学元件

90nm技术节点硅栅的干法刻蚀工艺研究: 《微细加工技术》2007年第5期44-47,共4页张庆钊谢常青刘明李兵朱效立马杰; 国家重点基础研究发展计划(973)资助项目(G200036504);国家自然科学基金重点项目资助(6023601060376020); 进入90 nm工艺节点以后,在等离子体干法刻蚀工艺中出现了越来越多需要解决的技术性问题,带有图形的晶片(相对于白片而言)上的膜层结构设计和刻蚀工艺参数的优化技术变得越来越重要。重点以具有栅氧化层、多晶硅层、二氧化硅和氮氧化硅...; 关键词：90 NM 硅栅干法刻蚀

Two-Dimensional Static Numerical Modeling and Simulation of AlGaN/GaN HEMT: 《Journal of Semiconductors》2006年第2期298-303,共6页薛丽君夏洋刘明王燕邵雪鲁净马杰谢常青余志平; 国家重点基础研究发展规划(批准号:2002CB311907,G200036504);国家自然科学基金(批准号:60236010)资助项目~~; AIGaN/GaN HEMTs are investigated by numerical simulation from the self-consistent solution of Schr6dinger-Poisson-hydrodynamic （HD） systems. The influences of polarization charge and quantum effects are considered i...; 关键词：AIGaN/GaN HEMT 2D modeling and simulation polarization charges quantum effects

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