国家自然科学基金(10175048)

作品数：18被引量：68H指数：6
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相关期刊：《功能材料与器件学报》《Plasma Science and Technology》《苏州大学学报（自然科学版）》《功能材料》更多>>
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CF_4/Ar等离子体刻蚀中入射角对SiO_2刻蚀速率的影响被引量：1
《功能材料与器件学报》2004年第3期327-331,共5页孔华 辛煜 黄松 宁兆元 
国家自然科学基金项目(No.10175048)
在CF4/Ar的感应耦合等离子体中,用“法拉第筒”式的方法研究了SiO2刻蚀速率与不同离子入射角度之间的关系。在所施加的-20～300V射频偏压范围内,SiO2基片的归一化刻蚀速率(NER)呈现两种情况,当偏压值<100V时,归一化刻蚀速率的大小与基...
关键词：感应耦合等离子体 法拉第筒 归一化刻蚀速率 入射角 SiO2 
反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜的XPS结构研究被引量：10
《物理学报》2004年第9期3220-3224,共5页江美福 宁兆元 
国家自然科学基金 (批准号 :10 175 0 48)资助的课题~~
采用射频反应磁控溅射法用高纯石墨作靶、三氟甲烷 (CHF3)和氩气 (Ar)作源气体制备了氟化类金刚石 (F DLC)薄膜 ,通过XPS光谱结合拉曼光谱、红外透射光谱和紫外 可见光光谱研究了源气体流量比等工艺条件对薄膜中键结构、sp2 sp3杂化比...
关键词：反应磁控溅射法 氟化类金刚石薄膜 红外透射光谱 XPS光谱 光学带隙 
沉积温度对a-C:F薄膜结构与热稳定性的影响
《功能材料与器件学报》2004年第2期171-176,共6页陈玲玲 程珊华 宁兆元 辛煜 
国家自然科学基金(No.10175048)
在不同的沉积温度下,利用CHF_3和C_2H_2为气体源,在微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)系统中制备了氟化非晶碳(a-C:F)薄膜,为了研究其热稳定性,薄膜在500℃的真空中作了退火处理。测量了退火前后其电学、光学性质的变化,使...
关键词：A-C:F 沉积温度 红外吸收谱 热稳定性 
CC双键对氟化非晶碳薄膜I-V特性的影响被引量：9
《物理学报》2004年第5期1496-1500,共5页叶超 宁兆元 程珊华 辛煜 许圣华 
江苏省高校省级重点实验室开放课题 (批准号 :KJS0 10 12 );国家自然科学基金 (批准号 :10 175 0 48)资助的课题~~
研究了电子回旋共振等离子体技术沉积的氟化非晶碳 (a_C :F)薄膜的电学性质 .发现对于不同C_Fx 含量的薄膜 ,CC含量的增大对薄膜的导电行为具有不同的影响 .薄膜的直流I_V特性呈现I =aV +bVn规律 ,是低场强区的欧姆导电和高场强区的空...
关键词：氟化非晶碳薄膜 直流伏安特性 电子回旋共振等离子体技术 碳=碳双键 空间电荷限流 带尾态密度 
氟化类金刚石薄膜的拉曼和红外光谱结构研究被引量：13
《物理学报》2004年第5期1588-1593,共6页江美福 宁兆元 
国家自然科学基金 (批准号 :10 175 0 48)资助的课题~~
以高纯石墨作靶、CHF3 Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备了介电常数在 1 77左右的氟化类金刚石 (F DLC)薄膜 .拉曼光谱表明 ,源气体中CHF3相对流量、射频功率和工作气压的增加都会引起薄膜的D峰与G峰强度之比ID IG 减小 ,薄膜中链式 (...
关键词：氟化类金刚石薄膜 反应磁控溅射法 拉曼光谱 红外吸收光谱 射频功率 光学带隙 
氟化非晶碳薄膜的低频介电性质分析被引量：2
《功能材料》2004年第3期338-340,共3页叶超 宁兆元 程珊华 辛煜 许圣华 
国家自然科学基金资助项目(10175048);江苏省高校省级重点实验室开放课题资助项目(KJS01012)
　研究了电子回旋共振等离子体技术沉积的氟化非晶碳(a C∶F)薄膜的低频(102～106Hz)介电性质。发现a C∶F薄膜的低频介电色散随源气体CHF3/C6H6的比例、微波入射功率而改变。结合薄膜键结构的红外分析,发现薄膜中CC相对含量的增大是导...
关键词：氟化非晶碳(α-C:F)薄膜 介电色散 键结构 
磁控溅射沉积的Ge/ZnO复合多层膜的光致发光特性研究
《功能材料》2004年第z1期328-330,333,共4页范东华 宁兆元 
国家自然科学基金(批准号:10175048)资助的课题
采用交替溅射Ge和ZnO靶的方法在Si(100)单晶基片上沉积了Ge/ZnO复合多层膜,并对其在空气中不同温度下进行了快速加热处理.在高温处理中部分Ge成分会被氧化转变成Ge的氧化物,XRD结果表明所制备的薄膜是由ZnO、Ge、GeO和GeO2多晶颗粒组成...
关键词：磁控溅射 Ge/ZnO多层膜 光致发光 
反应磁控溅射法沉积的氟化类金刚石薄膜的结构分析被引量：5
《功能材料》2004年第1期52-54,共3页江美福 宁兆元 
国家自然科学基金资助项目(10175048)
　以高纯石墨作靶、Ar/CHF3作源气体采用射频反应磁控溅射法室温下制备了氟化类金刚石薄膜(F DLC)。发现随着射频功率的增加,F DLC薄膜拉曼光谱的D峰与G峰强度之比ID/IG加大,薄膜中芳香环式结构比例上升。红外吸收光谱则显示射频功率增...
关键词：氟化类金刚石薄膜 结构分析 反应磁控溅射 拉曼光谱 红外吸收光谱 
射频功率对反应磁控溅射法沉积的a-C:F薄膜的影响
《苏州大学学报（自然科学版）》2003年第4期51-56,共6页江美福 宁兆元 
国家自然科学基金资助项目:(10175048)
以高纯石墨作靶、CHF3/Ar作源气体,采用反应磁控溅射沉积法制备了具有低介电常数(k～2.18)的氟化非晶碳(a C:F)薄膜.薄膜的结构和性质由红外吸收光谱、紫外可见光光谱、沉积速率及介电常数等作了表征.有关数据显示,薄膜的沉积速率随着...
关键词：氟化非晶碳薄膜 a-C:F薄膜 反应磁控溅射沉积法 射频功率 介电常数 薄膜结构 沉积速率 
源气体流量比对F-DLC薄膜结构的影响被引量：6
《材料科学与工程学报》2003年第4期539-541,共3页江美福 宁兆元 
国家自然科学基金资助项目 (1 0 1 750 4 8)
以高纯石墨作靶、CHF3/Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备出了氟化类金刚石 (F -DLC)薄膜。拉曼光谱表明 ,CHF3相对流量的增加会引起薄膜的D峰与G峰强度之比I(D) /I(G)减小 ,晶粒增大 ,芳香环结构比例下降。红外吸收光谱分析证实了这些...
关键词：源气体 流量比 F-DLC薄膜 影响 反应磁控溅射法 氟化类金刚石薄膜 拉曼光谱 
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