等离子增强化学气相沉积

作品数：61被引量：196H指数：7
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高能N等离子源辅助GaN薄膜生长及其物性研究
《光电子．激光》2024年第9期987-992,共6页胡海争 贺怀乐 赖黎 王顺利 吴超 郭道友 
国家自然科学基金(62274148);浙江省教育厅一般项目(23060158-F)资助项目。
氮化镓(GaN)具有宽带隙、高量子效率、优异的热稳定和抗辐射等特性,在高频、高功率电子及紫外光电器件中有着重要的作用。在本工作中,采用经济、环保的等离子增强化学气相沉积(plasma-enhanced chemical vapor deposition,PECVD)方法,...
关键词：等离子增强化学气相沉积(PECVD) GAN薄膜 低温沉积 N等离子体 
氮化硅薄膜生长随时间演化过程及其特性研究被引量：1
《硅酸盐通报》2021年第7期2396-2400,2436,共6页孙佳欣 周炳卿 
国家自然科学基金(51262022);内蒙古师范大学研究生科研创新基金(CXJJS19108)。
氮化硅SiNx薄膜凭借介电常数高和稳定性好的特点而被广泛应用于光电器件中,但薄膜的厚度对器件的性能有重要影响。针对此问题采用等离子体化学气相沉积技术,以高纯NH_(3)、N_(2)和SiH_(4)为反应气体,优化其他沉积参数,通过改变沉积时间...
关键词：等离子增强化学气相沉积 氮化硅薄膜 沉积时间 光学带隙 折射率 致密度 
非晶SiC_xO_y薄膜的可调强光发射机制被引量：1
《发光学报》2017年第9期1167-1172,共6页王怀佩 林圳旭 宋捷 张文星 王岩 郭艳青 李洪亮 宋超 黄锐 
国家自然科学基金(61274140;61306003);广东省自然科学基金(2015A030313871);广东高校优秀青年创新人才培养计划项目(YQ2015112);广东省普通高校青年创新人才项目(自然科学)2016资助项目~~
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术,以SiH_4、CH_4和O_2作为反应气源,通过调控O2流量在250℃下制备强光发射的非晶SiC_xO_y薄膜。利用光致发光光谱、荧光瞬态谱、Raman光谱、X射线光电子能谱及红外吸收谱对薄膜的光学性质和微结...
关键词：光致发光 碳氧化硅 等离子增强化学气相沉积 发光机制 
射频功率对富硅-氮化硅薄膜结构及性质影响被引量：2
《人工晶体学报》2016年第9期2322-2325,共4页乌仁图雅 周炳卿 高爱明 部芯芯 丁德松 
国家自然科学基金(51262022)
采用等离子体增强化学气相沉积法,以SiH_4、NH_3和N_2为反应气源,通过改变射频功率制备富硅-氮化硅薄膜材料。利用傅里叶变换红外吸收光谱,紫外-可见光透射光谱,扫描电镜等对薄膜材料结构与性质进行表征。实验表明,随着射频功率的逐渐增...
关键词：富硅-氮化硅薄膜 等离子增强化学气相沉积 射频功率 沉积速率 
非晶硅薄膜连续激光晶化结构研究被引量：1
《微纳电子技术》2015年第8期500-504,525,共6页程龙 郝惠莲 刘健俣 马永品 丁伟 
2014大学生重点科研平台创新训练项目(cz1405012);2014国家级创新训练项目(cs1305009);上海工程技术大学博士启动基金资助项目(201308);上海高校青年教师培养资助计划项目(ZZGJD13023)
为了研究连续激光晶化的非晶硅薄膜的结构特性,采用等离子体增强化学气相沉积技术在玻璃衬底上沉积了非晶硅薄膜,用波长为532 nm的连续激光对非晶硅薄膜进行晶化,并采用喇曼光谱仪、傅里叶红外吸收光谱仪和原子力显微镜对激光晶化前后...
关键词：等离子增强化学气相沉积(PECVD) 非晶硅薄膜 喇曼光谱 激光晶化 晶化率 
二氧化硅光波导膜材料的制备工艺被引量：1
《光电子》2014年第3期34-43,共10页吴金东 黄舒 胡海鑫 丁纲筋 肖湘杰 
二氧化硅(SiO2)平面光波导器件在光通信和光传感的应用日益广泛,制备SiO2膜材料是平面光波导及其集成器件制作的基础。等离子增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)和火焰水解沉积(Flame Hydrolysis Depo...
关键词：平面光波导 二氧化硅膜 等离子增强化学气相沉积 火焰水解沉积 
PECVD法制备氮化硅薄膜的电学性能研究被引量：1
《西南民族大学学报（自然科学版）》2013年第4期582-585,共4页凌绪玉 
以硅烷和氨气为前驱体,采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)法制备了氮化硅(SiNx)薄膜.利用X射线光电子能谱和红外光谱,研究了在不同的硅烷/氨气流量比条件下,合成的氮化硅薄膜的组分和结构.结果表明:随着硅烷氨气流量比的增加,薄膜的氮...
关键词：等离子增强化学气相沉积 氮化硅薄膜 电子材料 电学性能 
中红外完全光子带隙Ge反蛋白石三维光子晶体的制备(英文)
《量子电子学报》2009年第5期585-590,共6页李宇杰 谢凯 许静 
国家部委基金资助项目
采用溶剂蒸发对流自组装法将单分散二氧化硅(SiO_2)微球组装形成三维有序胶体晶体模板。以锗烷(GeH_4)为先驱体气,用等离子增强化学气相沉积法向胶体晶体的空隙中填充高折射率材料Ge。酸洗去除二氧化硅微球,得到Ge反蛋白石三维光子晶体...
关键词：光电子学 锗反蛋白石 光子晶体 完全光子带隙 等离子增强化学气相沉积 溶剂蒸发对流自组装 中红外 
微晶硅薄膜的等离子增强化学气相沉积生长特征被引量：3
《南京大学学报（自然科学版）》2008年第4期392-400,共9页左则文 闾锦 管文田 濮林 施毅 郑有炓 
国家自然科学基金(90606021)
本文采用27.12 MHz等离子增强化学气相沉积(PECVD)技术制备了氢化微晶硅薄膜材料,通过Raman散射谱、X射线衍射、扫描电子显微镜、原子力显微镜和傅立叶变换红外谱等表征方法研究了生长条件参数对薄膜结构及生长速率的影响,对薄膜的生长...
关键词：等离子体化学气相沉积 微结构 晶化率 孵化层 
PECVD法制备硅基ZnO薄膜光学性能的研究被引量：2
《材料工程》2007年第11期71-75,共5页王应民 杜楠 蔡莉 李禾 程国安 
江西省材料中心基金(ZX200401007);南昌航空大学博士科研启动基金(EA200601184);江西省教育厅科技项目(DB200501107)资助
使用薄膜分析系统研究在不同衬底温度下生长的硅基ZnO薄膜反射谱,了解衬底温度对薄膜的结晶状况影响。研究结果表明,随衬底温度的升高,晶粒之间融合长大,薄膜的折射率增大;在衬底温度450℃时生长的ZnO薄膜,薄膜的折射率最大为4.2,反射...
关键词：SI(111) ZNO薄膜 等离子增强化学气相沉积 反射光谱 
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