极紫外投影光刻

作品数：20被引量：75H指数：7
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相关机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院研究生院北京理工大学更多>>
相关期刊：《光子学报》《光谱学与光谱分析》《科学通报》《光学精密工程》更多>>
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大数值孔径产业化极紫外投影光刻物镜设计被引量：21
《光学学报》2011年第2期224-230,共7页刘菲 李艳秋 
国家科技重大专项;教育部长江学者特聘教授奖励计划;北京理工大学基础研究基金(20090442019);北京理工大学优秀青年教师资助计划扩展项目(2010CX04020)资助课题
极紫外光刻技术（EUVL）是半导体制造实现22 nm及以下节点的下一代光刻技术,高分辨投影物镜的设计是实现高分辨光刻的关键技术。为设计满足22 nm产业化光刻机需求的极紫外光刻投影物镜,采用6枚高次非球面反射镜,像方数值孔径达到0.3,像...
关键词：光学设计 投影物镜 高次非球面 极紫外光刻(EUVL) 
极紫外投影光刻光学系统被引量：9
《中国光学与应用光学》2010年第5期452-461,共10页王丽萍 
国家重大科技专项支持课题
极紫外光刻(EUVL)是半导体工业实现32～16nm技术节点的候选技术,而极紫外曝光光学系统是EUVL的核心部件,它主要由照明系统和微缩投影物镜组成。本文介绍了国内外现有的EUVL实验样机及其系统参数特性;总结了EUVL光学系统设计原则,分别综...
关键词：极紫外光刻 投影光学系统 照明光学系统 光学设计 
Xe液体微滴靶激光等离子体光源实验被引量：2
《光学精密工程》2006年第6期939-943,共5页尼启良 
国家自然科学基金(No.60677043)
基于Xe的惰性和在13～14nm波段高的辐射强度，Xe被认为是极紫外投影光刻（EuVL）潜在的靶材，为此设计和研制了一台液体微滴喷射靶激光等离子体（LPP）极紫外光源。详细地研究了Xe液体微滴喷射靶的光谱辐射特性、在13．4nm的激光-EUV转...
关键词：Xe液体微滴喷射靶 激光等离子体光源 极紫外投影光刻 
粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响
《光电工程》2005年第10期80-83,共4页杨雄 金春水 姚志华 曹健林 
应用光学国家重点实验室基金
基于Nevot-Croce模型,计算了一系列具有粗糙界面的极紫外投影光刻掩模的反射光谱。通过拟合计算结果,得到了峰值反射率、带宽和中心波长与粗糙度的函数关系。根据光刻系统对照明均匀性的要求,讨论了在相同粗糙度变化范围内,分别由峰值...
关键词：极紫外投影光刻 掩模 粗糙度 反射光谱 多层膜 
偏心孔阑离轴照明EUVL微缩投影物镜的设计及模拟装调
《光学仪器》2003年第4期39-43,共5页林强 金春水 向鹏 马月英 裴舒 曹健林 
国家自然科学基金重点项目 ( 6993 80 2 0 );中国科学院创新基金项目
针对极紫外投影光刻 ( Extreme Ultraviolet Lithography,简称 EUVL)工作波长短的特点及由此带来的一些问题 ,对 EUVL微缩投影物镜的结构参数进行分析选择 ,设计了离轴照明方式的 Schwarzschild微缩投影成像物镜。利用基于奇异值分解的...
关键词：极紫外投影光刻 EUVL 投影物镜 离轴照明 牛顿迭代法 敏感矩阵 计算机辅助装调 集成电路 
极紫外投影光刻掩模技术
《微细加工技术》2003年第3期16-21,41,共7页杨雄 金春水 曹健林 
国家自然科学基金重点资助项目(69938020);应用光学国家重点实验室基金资助项目
介绍了掩模基片的技术要求,分析了制备掩模多层膜的难点以及相应的解决措施,然后讲解了吸收层干刻法制备掩模的工艺流程,最后介绍了掩模缺陷的检测技术并概述了极紫外投影光刻掩模技术的现状。
关键词：掩模 极紫外投影光刻 缺陷检测 吸收层干刻法 多层膜 
下一代光刻技术研究开发情况被引量：1
《中国集成电路》2003年第2期91-92,共2页刘明 陈宝钦 
一、前言在微电子制造技术中,最为关键的是用于电路版图图形生成和复制的光刻技术,光刻技术的研究与开发在每一代集成电路技术的更新中都扮演着技术先导的角色。目前国际微电子领域最引人关注的热点就是即将到来的光刻技术变革。这一变...
关键词：光刻技术 极紫外投影光刻 下一代光刻 投影光学系统 微电子 激光等离子体光源 
微细加工技术与设备
《中国光学》2003年第1期96-98,共3页
TN305 2003010743基于一种新微细加工技术的亚波长光栅的研制=Subwavelengthgratings based on a new microfabrication technology[刊,中]/李以贵(上海交通大学微纳米科学技术研究院.上海(200030)),陈迪…//光学学报.-2002,22(8)-1008-...
关键词：微细加工技术 亚波长光栅 电子技术 技术研究所 扫描曝光 中科院 数学模型 国家重点实验室 科学技术研究 极紫外投影光刻 
离轴照明Schwarzschild投影物镜的计算机辅助装调方法被引量：7
《光学精密工程》2003年第2期144-150,共7页林强 金春水 向鹏 曹健林 
国家自然科学基金重点项目(No.69938020);中国科学院创新基金项目
介绍计算机辅助装调方法在离轴照明EUVL光学系统中的应用,阐述了一种基于奇异值分解(SVD)的牛顿迭代法来求解失调量。利用该方法对敏感矩阵进行分解,从中分析得到影响不同像差的结构参数的敏感性,并筛选出补偿器,求出相应失调量的大小...
关键词：集成电路 EUVL 极紫外投影光刻 光学系统装调 奇异值分解 
极紫外投影光刻原理装置的集成研究被引量：4
《光学学报》2002年第7期852-857,共6页金春水 马月英 裴舒 曹健林 
国家自然科学基金 (6 99380 2 0 1)资助课题
论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性 ,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、施瓦茨微缩投影物镜及相应的真空系统组成。其工作波长为 13nm ,在...
关键词：极紫外投影光刻原理装置 极紫外投影光刻 多层膜反射镜 Schwarzschild物镜 集成电路 制造技术 
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