反应离子

作品数：373被引量：643H指数：11
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基于DRIE的太赫兹行波管硅基低损耗慢波结构工艺技术研究
《固体电子学研究与进展》2024年第5期369-373,共5页吴杰 杨扬 刘欣 严可 郑源 冯堃 王政焱 姜理利 黄旼 李忠辉 朱健 陈堂胜 
行波管慢波结构的制造通常采用计算机数字化控制精密机械加工技术。随着工作频率的提升,对慢波结构特征尺寸精度的要求达到微纳米级,导致加工难度大、周期长,成本高昂,一定程度上限制了技术的快速发展。硅基MEMS加工工艺具备优秀的三维...
关键词：太赫兹 慢波结构 低损耗 硅基 MEMS 深反应离子刻蚀(DRIE) 
基于MEMS技术的离子门设计与制备
《微纳电子技术》2024年第10期134-140,共7页任家纬 贾建 高晓光 何秀丽 
国家重点研发计划(2022YFF0708200)。
为了提高小型离子迁移谱仪分辨率,基于微电子机械系统(MEMS)技术设计并制备了Bradbury-Nielsen(BN)离子门。首先简要介绍离子迁移谱仪原理及结构,其次通过SIMION软件对漂移管进行建模,利用统计扩散模拟(SDS)多物理场的仿真程序模拟离子...
关键词：离子门 微电子机械系统(MEMS) 离子迁移谱 有限元仿真 深反应离子刻蚀 
太赫兹真空器件中超深金属慢波结构的微加工技术
《真空科学与技术学报》2024年第9期759-767,共9页姜琪 李兴辉 冯进军 蔡军 潘攀 
大功率微波电真空器件技术国防科技重点实验室基金项目(10249)。
太赫兹真空电子器件物理结构尺寸变化随着波长的减小而减小,对微小结构的尺寸精度与表面粗糙度要求也大大增加。随着器件频率进入到太赫兹频段,慢波结构的深度达到几十微米或者百微米量级,加工的难点主要有:材料为金属,结构超深,表面粗...
关键词：太赫兹真空电子器件 微机电系统 深反应离子刻蚀 紫外−光刻、电铸 慢波结构 
基于光刻胶修正技术的石英锥形侧壁刻蚀工艺研究
《半导体光电》2024年第4期606-611,共6页刘丹 乌李瑛 沈贇靓 张文昊 刘民 权雪玲 程秀兰 
国家科技部“十四五”重点研发计划“高性能免疫现场检测系统研发”项目(2023YFC2413001)。
基于光刻胶修正技术,采用两步刻蚀法对石英锥形侧壁的刻蚀工艺进行了研究。首先利用Ar,O_(2),CF_(4)气体对光刻胶刻蚀,将光刻胶的垂直侧壁修改为锥形侧壁。然后以此为掩膜实现光刻胶倾斜侧壁向石英材料的转移。两步刻蚀在同一个刻蚀腔...
关键词：石英 光刻胶修正 反应离子刻蚀 倾斜侧壁 
用于E型薄膜制备的双掩膜工艺研究
《压电与声光》2024年第4期505-510,共6页郝一鸣 雷程 王涛龙 余建刚 冀鹏飞 闫施锦 梁庭 
国家重点研发计划资助项目(2023YFB3209100);中央引导地方科技发展资金资助项目(YDZJSX20231B006);山西省重点研发计划资助项目(202302030201001)。
在高温压力传感器中,与C型膜片相比,E型膜片的稳定性强,非线性误差小,相同挠度下灵敏度高。在微机电系统(MEMS)工艺流程中薄膜制备较重要,其形貌结构对传感器的性能影响较大。但E型薄膜的制备过程较难,为制备出形貌良好的E型(硅岛)薄膜...
关键词：双掩膜 E型薄膜 深反应离子刻蚀 刻蚀比 刻蚀形貌 
低损耗聚合物光波导反应离子刻蚀工艺的研究
《三门峡职业技术学院学报》2024年第2期134-140,共7页郭琦 尤向阳 
反应离子刻蚀是聚合物光波导制备过程中的一项关键工艺。通过改变射频功率RF、反应腔室压强以及混合气体组成与配比等参数研究对波导刻蚀的影响因素,利用台阶仪、金相显微镜和扫描电子显微镜(SEM)观测波导形貌,找到了表面毛糙度小、侧...
关键词：RIE刻蚀 聚合物光波导 毛糙度 刻蚀速率 
基于蓝宝石材料的微结构增透性能研究
《中国激光》2023年第22期63-71,共9页张文妮 曹红超 孔钒宇 张益彬 汪瑞 晋云霞 邵建达 
国家重点研发计划(2020YFA0714500);国家自然科学基金(61875212,U1831211);上海市战略性新兴产业发展专项基金(31011442501217020191D3101001);中国科学院国际合作项目(181231KYSB20200040);中国科学院战略性先导科技专项(A类)资助(XDA25020314)。
针对传统熔石英激光窗口在碱金属蒸气环境下易腐蚀的痛点问题,提出了在蓝宝石材料上制备增透微结构的方法,以实现耐高温、耐腐蚀的高透激光窗口。在理论仿真的基础上,采用干涉曝光与反应离子束刻蚀技术,在蓝宝石基底表面上制备了增透微...
关键词：薄膜 增透微结构 干涉曝光 反应离子束刻蚀 
电子特气在低温干法刻蚀中的应用与发展被引量：1
《低温与特气》2023年第2期11-16,共6页陈润泽 花莹曦 张建伟 倪珊珊 吝秀锋 李欣 孙加其 王佳佳 
介绍了低温干法刻蚀技术的技术原理、应用和进展,探讨了不同刻蚀气体和工艺参数对低温干法刻蚀工艺的影响。
关键词：低温干法刻蚀 反应离子刻蚀 电子特气 
金刚石纳米锥坑阵列结构的制备
《微纳电子技术》2023年第1期116-123,共8页谭心 潘超 贺占清 祁晖 杨桥 
国家自然科学基金资助项目(61765012);内蒙古自然科学基金资助项目(2019MS05008);国家重点研发计划资助项目(2017YFF0207200,2017YFF0207203);内蒙古自治区科技创新指导项目(2017CXYD-2,KCBJ2018031);内蒙古科技大学青年基金项目(202/0303022006)。
采用电感耦合反应离子刻蚀(ICP-RIE)技术刻蚀金刚石薄膜,通过调整刻蚀功率、角度及时间等工艺参数,低成本且高效率地实现了排列整齐的圆形纳米锥坑阵列的可控化制备。对纳米锥坑的制备过程进行深入研究,发现可通过调节刻蚀角度与偏压功...
关键词：纳米锥坑 金刚石薄膜 电感耦合反应离子刻蚀(ICP-RIE) 刻蚀方向性 荧光增强 
用于制备微纳米玻璃结构的加工工艺被引量：2
《微纳电子技术》2022年第3期272-277,共6页权雪玲 刘民 付学成 黄胜利 凌天宇 瞿敏妮 程秀兰 
2018年度上海研发公共服务平台建设项目(18DZ2295400);上海交通大学决策咨询课题资助项目(JCZXSJA2018-003);上海交通大学实验室创新研究课题资助项目(16SJ-007)。
玻璃基材具备很多优点,是理想的微纳加工基材之一。随着在玻璃基材上加工的微纳结构越来越复杂,对玻璃微纳加工工艺的要求也越来越高。将现在普遍使用的半导体微纳加工工艺进行择优组合用于玻璃加工,并针对电感耦合等离子体反应离子刻蚀...
关键词：玻璃基材 微纳加工 干法刻蚀 电感耦合等离子体反应离子刻蚀(ICP-RIE) 刻蚀选择比 
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