SI/SIGE/SI

作品数:16被引量:28H指数:4
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相关机构:北京工业大学中国科学院西安交通大学东南大学更多>>
相关期刊:《Journal of Rare Earths》《Modeling and Numerical Simulation of Material Science》《电子学报》《固体电子学研究与进展》更多>>
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一种新型Si/SiGe/Si双异质结PIN电学调制结构的异质结能带分析被引量:4
《物理学报》2016年第5期90-97,共8页冯松 薛斌 李连碧 翟学军 宋立勋 朱长军 
国家自然科学基金(批准号:61204080);陕西省教育厅科研计划(批准号:15JK1292);西安工程大学博士科研启动基金(批准号:BS1128;BS1436);西安工程大学研究生教育"质量工程"项目(批准号:15yzl10);陕西省普通高校重点学科建设专项资金建设项目(批准号:(2008)169)资助的课题~~
PIN结构是电光调制器中常见的一种电学调制结构,该结构中载流子注入效率直接影响着电光调制器的性能.在前期的研究中,我们在SOI材料的基础上提出了一种新型Si/Si Ge/Si双异质结PIN电学调制结构,可以有效提高载流子注入效率,降低调制功耗...
关键词:光电子器件 电光调制器 锗硅 异质结能带 
热处理中Si/SiGe/Si界面互扩散被引量:1
《功能材料与器件学报》2014年第6期205-208,共4页文娇 刘畅 俞文杰 张波 薛忠营 狄增峰 闵嘉华 
上海市自然科学基金(项目编号:12ZR1453000;12ZR1453100;12ZR1436300);国家自然科学基金(项目编号:61306126;61306127;61106015)资助
利用高分辨率X射线衍射(HRXRD)和拉曼光谱(Raman spectrum)研究了由扩散引起Si/Si Ge/Si异质结中Si/Si Ge异质界面互混的现象。结果表明:应变弛豫前Si/Si Ge异质界面互混程度随热载荷的增加而增强;Si/Si Ge异质界面的硼(B)浓度梯度抑制...
关键词:Si/SiGe互扩散 热载荷 硼浓度梯度 
Modelling of the Quantum Transport in Strained Si/SiGe/Si Superlattices Based P-i-n Infrared Photodetectors for 1.3 - 1.55 μm Optical Communication
《Modeling and Numerical Simulation of Material Science》2014年第1期37-52,共16页Noureddine Sfina Naima Yahyaoui Moncef Said Jean-Louis Lazzari 
In this paper, a p-i-n heterojunction based on strain-compensated Si/Si1-xGex/Si multiple quantum wells on relaxed Si1-yGey is proposed for photodetection applications. The Si1-yGey/Si/Si1-xGex/Si/Si1-yGey stack consi...
关键词:STRAINED SIGE/SI Quantum WELLS Band Structure Device Engineering P-I-N Infrared Photodetectors 
量子阱Si/SiGe/Si p型场效应管阈值电压和沟道空穴面密度模型
《物理学报》2012年第16期348-354,共7页李立 刘红侠 杨兆年 
国家自然科学基金(批准号:61076097;60936005)资助的课题~~
Si材料中较低的空穴迁移率限制了Si互补金属氧化物半导体器件在高频领域的应用.针对SiGe p型金属氧化物半导体场效应管(PMOSFET)结构,通过求解纵向一维泊松方程,得到了器件的纵向电势分布,并在此基础上建立了器件的阈值电压模型,讨论了G...
关键词:SIGE P型场效应管 阈值电压 量子阱 空穴面密度 
Photoreflectance Spectroscopy for Study of Si/SiGe/Si Heterostructure
《Journal of Rare Earths》2004年第z2期17-20,共4页Liu Zhihong Chen Changchun Lin Huiwang Xiong Xiaoyi Dou Weizhi Tsien Pei-Hsin 
UHVCVD-grown Si/Si1- xGex/Si heterostructure was investigated by Photoreflectance spectroscopy (PR). The principle of PR used in semiconductor film was thoroughly described. According to the E1 transition energy in th...
关键词:SIGE/SI photoreflectance UHVCVD 
Characterization of Si/SiGe/Si Deposited on SIMOX SOI by Synchrotron Radiation X-Ray Double-crystal Topography
《Journal of Rare Earths》2004年第z2期5-7,共3页Ma Tongda Tu Hailing Hu Guangyong Wang Jing 
The synchrotron X-ray double-crystal topography was employed to investigate the structure of Si/SiGe/Si deposited on SIMOX SOI. Rocking curves with three diffraction peaks were acquired before and after 180° rotation...
关键词:SYNCHROTRON radiation double-crystal TOPOGRAPHY TILT STRAINED relaxation 
Si/SiGe/SiHBT直流特性的可靠性
《微纳电子技术》2003年第10期17-19,共3页崔福现 张万荣 
对单台面SiGeHBT在E-B结反偏应力下直流特性的可靠性进行了研究。研究结果表明,随应力时间的增加,开启电压增加,直流电流增益下降,特别是在低E-B正偏电压时下降明显;而交流电流增益退化缓慢。
关键词:异质结双极晶体管 HBT 直流特性 可靠性 SI/SIGE/SI 硅锗 增益 
The property of Si/SiGe/Si heterostructure during thermal budget characterized by HRXRD
《Nuclear Science and Techniques》2003年第4期238-241,共4页CHENChang-Chun LIUZhi-Hong HUANGWen-Tao DOUWei-Zhi ZHANGWei TSIENPei-Hsin ZHUDe-Zhang 
the National High Technology and Research Development Program(863 Program)of China(No.2002AA321230);partially supported by the National Natural Sciences Foundation of China(No.10075072)
Si/SiGe/Si heterostructures grown by ultra-high-vacuum chemical vapor deposition (UHVCVD) werecharacterized by Rutherford backscattering/Channeling (RBS/C) together with high resolution X ray diffraction(HRXRD). High ...
关键词:Si/SiGe/Si异质结构 热平衡 HRXRD 超高真空化学气相沉积 UHVCVD X射线衍射 
射频Si/SiGe/Si HBT的研究
《电子器件》2003年第2期136-138,共3页廖小平 殷刚毅 
东南大学科学基金资助
在Si/SiGe/Si HBT与Si工艺兼容的研究基础上,对射频Si/SiGe/Si HBT的射频特性和制备工艺进行了研究,分析了与器件结构有关的关键参数寄生电容和寄生电阻与Si/SiGe/Si HBT的特征频率f_τ和最高振荡频率f_(max)的关系,成功地制备了f_τ为2...
关键词:Si/SiGe/SiHBT 特征频率fT 最高振荡频率fmax 
Si/SiGe/Si HBT的直流特性和低频噪声被引量:1
《电子器件》2003年第1期22-24,共3页廖小平 张中平 
东南大学科学基金资助
在对Si/SiGe/SiHBT及其Si兼容工艺的研究基础上 ,研制成功低噪声Si/SiGe/SiHBT ,测试和分析了它的直流特性和低频噪声特性 。
关键词:SI/SIGE/SI HBT 直流特性 低频噪声 
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