安徽省自然科学基金(11040606M63)

作品数：11被引量：15H指数：2
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一种CFP 40G/100G光模块物理层的测试方法被引量：1
《合肥工业大学学报（自然科学版）》2015年第4期504-507,共4页景红星 何晓雄 
安徽省自然科学基金资助项目(11040606M63);安徽高校省级自然科学研究重点资助项目(KJ2009A091)
针对CFP 40G/100G光模块物理层测试需要,文章介绍了一种基于IEEE 802.3BA协议的测试方案。该测试方案利用泰克BertScope示波器测试平台,制作CFP测试夹具把CFP 40G/100G光模块高速电信号引出来,实现了对CFP 40G/100G光模块接收端和发送...
关键词：IEEE 802.3ba标准 测试 眼图 CFP光模块 夹具 
硅基SiC薄膜的制备及性能研究被引量：1
《合肥工业大学学报（自然科学版）》2015年第3期351-353,392,共4页胡冰冰 何晓雄 许世峰 孙飞翔 
安徽省自然科学基金资助项目(11040606M63)
文章采用电子束物理气相沉积法在单晶Si(100)基片上制备了单层SiC薄膜和Al2O3/SiC双层膜,然后在不同温度下经氩气保护退火。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)对所制备的薄膜进行了结构和表面形貌分析。研究表明:退火后SiC薄膜...
关键词：SIC薄膜 电子束物理气相沉积 表面形貌 X射线衍射 
硅基底的CVD扩磷工艺研究
《合肥工业大学学报（自然科学版）》2014年第2期192-195,共4页杨旭 何晓雄 胡冰冰 马志敏 
安徽省自然科学基金资助项目(11040606M63);安徽省高校省级自然科学研究重点资助项目(KJ2009A091)
文章利用化学气相沉积(CVD)扩磷的方法,在单晶硅基底上进行扩磷工艺研究。采用X射线光电子能谱分析扩磷硅基底,通过原子力显微镜观察扩磷时间和温度对硅基底表面形貌的影响,并利用半导体特性测试仪研究扩磷时间和温度对硅基底I-V特性的...
关键词：硅基底 扩磷工艺 表面形貌 化学气相沉积 chemical VAPOUR depo-sition(CVD) 
NiO薄膜的脉冲激光沉积及其结构和光学特性研究
《电子元件与材料》2013年第8期22-25,共4页李琳 董燕 余亮 文亚南 梁齐 
安徽省自然科学基金资助项目(No.11040606M63)
利用脉冲激光沉积法在ITO玻璃衬底上制备了NiO薄膜,利用XRD、AFM对样品的晶体结构和表面形貌进行了表征,并对其透射光谱进行了测试,研究了衬底温度及脉冲激光能量对所制NiO薄膜的结构、形貌和光学特性的影响。结果表明：在脉冲激光能量...
关键词：NIO 多晶薄膜 宽禁带半导体 脉冲激光沉积 透射率 择优取向 
PLD法制备NiO薄膜及结构和形貌的研究
《真空》2013年第2期22-26,共5页汪礼柱 梁金 何晓雄 梁齐 
安徽省自然科学基金(11040606M63)
利用脉冲激光沉积法(PLD)在Si衬底上制备NiO薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对所制备薄膜的晶体结构和表面形貌进行表征分析,研究衬底温度和脉冲激光能量对NiO薄膜结构和形貌的影响,得到生长质量较高、择优取向的多晶NiO薄...
关键词：NiO薄膜 脉冲激光沉积(PLD) 结构 形貌 
基于TCAD的门极换流晶闸管的研究
《合肥工业大学学报（自然科学版）》2013年第3期285-286,302,共3页苏陶 刘玉欣 何晓雄 
安徽省自然科学基金资助项目(11040606M63);安徽省高校省级自然科学研究重点资助项目(KJ2009JA091;KJ2012A228)
文章基于ISE公司的半导体仿真软件TCAD系列软件对GCT进行了模拟,通过建立的GCT模型,研究了透明阳极结构和栅极数目对通态特性的影响。模拟结果表明,透明阳极中的杂质总量是决定GCT的通态压降的关键因素,杂质总量越多,通态压降越低。研...
关键词：门极换流晶闸管(GCT) 透明阳极 通态特性 栅极数目 电力半导体器件 
EB-PVD制备硅基SiC薄膜及其性能研究被引量：2
《合肥工业大学学报（自然科学版）》2012年第12期1665-1668,共4页潘训刚 何晓雄 胡冰冰 马志敏 
安徽省自然科学基金资助项目(11040606M63);安徽省高校省级自然科学研究重点资助项目(KJ2009A091;KJ2012A228)
文章采用电子束蒸发物理气相沉积(EB-PVD)技术在单晶Si片上制备SiC薄膜,通过台阶仪(surfaceprofiler)、原子力显微镜(AFM)、半导体综合测试仪、X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对薄膜表面形貌、电学性能及其结构进行分析。结果表明...
关键词：SIC薄膜 电子束蒸发物理气相沉积 原子力显微镜 扫描电子显微镜 X射线衍射 
LPCVD制备多晶Si薄膜的工艺和性能分析被引量：1
《合肥工业大学学报（自然科学版）》2012年第11期1496-1499,1540,共5页胡佳宝 何晓雄 杨旭 
安徽省自然科学基金资助项目(11040606M63);安徽省高校省级自然科学研究重点资助项目(KJ2009A091)
文章利用低压化学气相沉积法(LPCVD),在单晶Si衬底上制备多晶Si薄膜。利用原子力显微镜观察薄膜厚度和镀膜温度对多晶Si薄膜表面形貌的影响,并利用XRD研究退火温度对多晶Si薄膜结晶性能的影响。结果表明:镀膜温度越高、薄膜越厚,薄膜的...
关键词：多晶硅薄膜 低压化学气相沉积 表面形貌 X射线衍射 
衬底对直流磁控溅射制备TiO_2薄膜结构和形貌的影响被引量：2
《合肥工业大学学报（自然科学版）》2012年第5期640-643,共4页徐开松 何晓雄 潘训刚 
安徽省自然科学基金资助项目(11040606M63);安徽省教育厅产学研重点资助项目(KJ2009A091)
在气压为1Pa和2Pa的情况下,文章采用直流磁控溅射法分别在Si(100)、Al2O3陶瓷、普通载玻片3种衬底上生长TiO2薄膜;利用原子力显微镜对TiO2薄膜的表面形貌进行观察,研究了压强及衬底对薄膜表面形貌的影响。并研究表明,在Si(100)衬底上生...
关键词：TIO2薄膜 磁控溅射 表面形貌 
SiO_2/TiO_2减反膜系的制备和性能测试被引量：4
《合肥工业大学学报（自然科学版）》2012年第4期496-498,551,共4页王曦雯 何晓雄 胡佳宝 
安徽省自然科学基金资助项目(11040606M63);安徽省高校省级自然科学研究重点资助项目(KJ2009A091)
由于减反射薄膜的性能受制备工艺的影响很大,文章采用SiO2和TiO2作为低、高折射率膜料,采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了多层减反射膜系,研究了制备工艺对薄膜性能的影响,从理论和实验2个方面得出了制备的多层减反射膜系在450～625nm...
关键词：减反射薄膜 磁控溅射 制备工艺 薄膜性能 
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