光学光刻

作品数：103被引量：209H指数：8
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相关领域：电子电信更多>>
相关作者：谢常青刘明陈大鹏童志义陈宝钦更多>>
相关机构：中国科学院微电子研究所中国科学院信越化学工业株式会社四川大学更多>>
相关期刊：《微细加工技术》《中国集成电路》《电子科技文摘》《电子显微学报》更多>>
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离轴照明空间成像的偏振光影响研究被引量：1
《微细加工技术》2003年第3期22-25,共4页余国彬 罗先刚 姚汉民 严佩英 胡松 严伟 
国家自然科学基金资助项目(60078005)
在投影光刻中矢量衍射理论适用于研究照明光的偏振态对空间成像的影响。主要研究了在离轴照明方式下照明光的偏振态对线条图形的影响。发现在高数值孔径时光的偏振状态严重影响了离轴照明空间成像,结果表明可以通过控制照明光的偏振态...
关键词：投影光刻 离轴照明 空间成像 偏振光 光学光刻 
ASML公司光学光刻技术最新进展被引量：8
《微细加工技术》2002年第3期8-11,27,共5页张强 胡松 姚汉民 刘业异 
荷兰ASML公司作为全球三大光刻机集成生产商之一 ,通过不断的技术创新 ,在全球光刻机市场上居于领先地位。在简单介绍光刻机基本工作原理和主要技术指标的基础上 。
关键词：ASML公司 光刻机 投影光刻物镜 光学对准 照明系统 双平台扫描 
PREVAIL——下一代电子束投影曝光技术被引量：1
《微细加工技术》2002年第2期1-4,共4页王云翔 刘明 陈宝钦 李友 张建宏 张卫红 
国家自然科学基金资助项目 (6 990 6 0 0 6 )
PREVAIL作为下一代电子束投影曝光技术 ,采用可变轴浸没透镜 ,对以硅为支架的碳化硅薄膜进行投影微缩曝光。在 1mm2 子场的情况下 ,运用步进扫描曝光方式 ,在 1 0 0nm临界尺寸下具有较高的产量 ,与EUVL技术一起成为下一代曝光技术的有...
关键词：PREVAIL 电子束投影曝光技术 光学光刻技术 NGL 
提高光刻图形质量的双曝光技术被引量：1
《微细加工技术》2001年第2期20-23,共4页苏平 冯伯儒 张锦 
国家自然科学基金! (6 0 0 76 0 19) ;所长基金!(JK9910 );微细加工光学技术国家重点实验室基金!(KFS990 9)
双曝光技术能提高图形对比度和分辨率 ,可改善焦深 ,从而提高光刻图形质量。介绍了双曝光技术原理和几种双曝光方法 ,同时 ,提出采用双曝光技术 ,结合相移掩模和光学邻近效应校正来提高光刻分辨率 ,给出了双曝光光刻方法的实例及计算机...
关键词：光学光刻 双曝光技术 图形质量 
用灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究
《微细加工技术》2000年第2期39-44,共6页杜惊雷 粟敬钦 张怡霄 郭永康 崔铮 
国家自然科学基金资助项目!(6 990 70 0 3)
利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法 ,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模 ,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正 ,获得了满意的实验结果 ,在可...
关键词：灰阶编码掩模 光学邻近效应校正 光学光刻 
光学光刻和射线光刻技术的发展──参加ICO—17述评被引量：2
《微细加工技术》1997年第1期1-7,共7页冯伯儒 
国家自然科学基金
结合对1996年第17届国际光学学会会议的简介，评述了光学光刻和X射线光刻技术的发展概况。对一些相关技术，如激光等离子体X射线源、掩模、抗蚀剂、X射线光学元件和光刻装置的发展近况也做了一些介绍。
关键词：国际 光学学会会议 光学光刻 X射线光刻 
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