MOCVD外延

作品数:19被引量:22H指数:2
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相关作者:李晋闽闫建昌王军喜芦秀玲邓军更多>>
相关机构:中国科学院吉林大学中国科学院大学南京大学更多>>
相关期刊:《液晶与显示》《稀有金属材料与工程》《半导体光电》《半导体技术》更多>>
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MOCVD生长的外延层掺杂氧化镓场效应晶体管
《人工晶体学报》2025年第2期312-318,共7页郁鑫鑫 沈睿 于含 张钊 赛青林 陈端阳 杨珍妮 谯兵 周立坤 李忠辉 董鑫 张洪良 齐红基 陈堂胜 
国家重点研发计划(2022YFB3605504)。
本文基于Ga_(2)O_(3)MOCVD外延材料,开展了Ga_(2)O_(3)场效应晶体管的研制和性能研究。为了降低器件的导通电阻,优化了外延层设计,将掺杂浓度提高至1×10^(18) cm^(-3)以上。通过长沟道器件提取的外延层的电子浓度和场效应迁移率分别为2...
关键词:氧化镓 MOCVD外延 掺杂 比导通电阻 击穿电压 功率优值 
高Al组分AlGaN/AlN/GaN量子级联结构的MOCVD外延研究
《电子技术(上海)》2024年第1期1-4,共4页吴粤川 邓文娟 
国家自然科学基金(61961001)。
阐述高Al组分差的GaN/AlN/AlGaN量子级联紫外-红外双色探测结构的设计,并用MOCVD外延实现过程。通过MOCVD监控分析GaN/AlN/AlGaN量子级联结构生长状况,发现外延AlGaN层的整体Al组分偏低。随后用SEM观测样品表面形貌存在凸起,从截面测量...
关键词:电子器件设计 量子级联 MOCVD 紫外-红外探测 SEM 高Al组分 
切割角蓝宝石基氧化镓薄膜MOCVD外延及日盲紫外光电探测器制备被引量:2
《人工晶体学报》2023年第6期1007-1015,共9页汪正鹏 张崇德 孙新雨 胡天澄 崔梅 张贻俊 巩贺贺 任芳芳 顾书林 张荣 叶建东 
国家重点研发计划(2022YFB3605403);国家自然科学基金(62234007,62293521,U21A20503,U21A2071);广东省重点研发计划(2020B010174002)。
本文使用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法在不同切割角的c面蓝宝石衬底上外延氧化镓(β-Ga_(2)O_(3))单晶薄膜,揭示了衬底切割角对外延薄膜晶体质量的影响规律。研究表明,当衬底切割角为6°时,β-Ga_(2)O_(3)外延膜具有较小的X射线摇...
关键词:超宽禁带半导体 氧化镓薄膜 金属有机物化学气相沉积 日盲紫外光电探测器 切割角 外延 
不同Mo层厚度的AlN/Mo/Sc_(0.2)Al_(0.8)N复合结构上MOCVD外延GaN被引量:2
《发光学报》2023年第6期1077-1084,共8页李嘉豪 韩军 邢艳辉 董晟园 王冰辉 任建华 曾中明 张宝顺 邓旭光 
国家自然科学基金(61731019);北京市自然科学基金(4202010)。
采用脉冲直流磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了AlN/Mo/Sc_(0.2)Al_(0.8)N复合结构薄膜,在该结构上通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术进行GaN薄膜的外延。使用原子力显微镜、高分辨X射线衍射、粉末X射线衍射、扫描电子显微镜和拉曼光...
关键词:GAN 金属有机化学气相沉积(MOCVD) ScAlN X射线衍射 
4英寸GaN衬底MOCVD外延高质量AlGaN/GaN HEMT材料研究分析被引量:1
《标准科学》2023年第S01期210-214,共5页高楠 房玉龙 王波 张志荣 尹甲运 芦伟立 陈宏泰 牛晨亮 
本文对金属有机物化学气相淀积法在4英寸GaN衬底上生长出的高质量AlGaN/GaN HEMT外延材料进行了研究分析。生长过程采用NH_(3)/H_(2)混合气体及H_(2)交替通入的方法对衬底表面进行了预处理,阻隔了界面杂质的扩散。得益于衬底与外延的高...
关键词:GaN衬底 AlGaN/GaN HEMT 
热氧化对MOCVD外延GaN薄膜光学特性影响的实验研究
《光电子技术》2021年第4期303-307,共5页陈柯宇 咸冯林 徐林华 郑改革 匡文剑 裴世鑫 
江苏省自然科学基金青年基金(BK20180784)。
采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在600℃下在蓝宝石衬底上外延生长了GaN薄膜,研究了热氧化温度对GaN薄膜的微观结构和光学特性的影响。实验表明600℃生长的GaN薄膜结晶质量较差,随着热氧化温度逐渐增加,GaN薄膜的结晶质量逐渐提高,...
关键词:氮化镓薄膜 金属有机化学气相沉积 热氧化 光学特性 
基于MOCVD外延超薄氧化镓薄膜的高性能日盲和X射线探测器(特邀)被引量:2
《光子学报》2021年第10期203-214,共12页钟天晟 于舜杰 赵晓龙 丁梦璠 梁方舟 方师 张中方 侯小虎 孙海定 徐光伟 胡芹 龙世兵 
国家自然科学基金(Nos.61925110,U20A20207,61821091,62004184,62004186,51961145110);中国科学院战略性先导研究项目(No.XDB44000000);中国科学院前沿科学重点研究计划(No.QYZDB-SSW-JSC048);广东省重点领域研究与发展计划(No.2020B010174002);中央高校基本科研业务费专项资金(Nos.WK2100000014,WK2100000010);中国博士后科学基金项目(Nos.2020M671895,BX20200320)。
为了顺应光电探测器和阵列小尺寸、多功能、高密度集成的发展趋势,报告了一种基于超薄氧化镓(Ga2O3)制成的高性能日盲和X射线双功能探测器。基于金属有机化合物化学气相沉淀法,通过高温下的精细生长调控,实现了较薄厚度(70 nm)的高质量G...
关键词:光电探测器 双功能探测 MOCVD 氧化镓 X射线 日盲紫外 
GaN HEMT器件的AlN缓冲层MOCVD外延生长研究
《舰船电子对抗》2020年第5期116-120,共5页倪洪亮 吴金星 
探讨了GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件的基础——AlN缓冲层的制备,运用金属有机化学气相沉淀(MOCVD)技术,采用脉冲原子层外延(PALE)和传统连续生长相结合的方法,在提高AlN缓冲层生长速度的同时改善晶体的质量。采用优化后的生长工艺,...
关键词:GAN高电子迁移率晶体管 ALN缓冲层 金属有机化学气相沉淀 脉冲原子层外延 
生长温度对MOCVD外延Zn O纳米结构的影响被引量:3
《发光学报》2018年第10期1425-1430,共6页徐德前 庄仕伟 马雪 徐佳新 张宝林 
国家自然科学基金(61574069)资助项目~~
为了探究生长温度对外延Zn O纳米结构的影响,得到Zn O纳米结构可控生长的生长温度条件。利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法,设计并获得了不同生长温度的Zn O外延样品,并对所有样品进行了表面形貌、光学特性、电学特性表征和结晶质量...
关键词:ZNO MOCVD 生长温度 纳米结构 
980nm大功率半导体激光器的MOCVD外延生长条件优化被引量:3
《半导体光电》2016年第4期518-523,共6页李岩 李建军 邓军 韩军 
国家自然科学基金项目(61204011;11204009);北京市教委能力提升项目(PXM2014_014204_07_000018);北京市自然科学基金项目(4142005)
为了对980nm大功率半导体激光器的波导层和有源层外延材料进行快速表征,设计了相应的双异质结(DH)结构和量子阱(QW)结构,并在不同条件下进行了MOCVD外延生长,通过室温荧光谱测试分析,得到Al0.1Ga0.9As波导层的最佳生长温度为675℃,InGaA...
关键词:半导体激光器 MOCVD 量子阱 波导层 生长温度 
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