大面积金刚石膜

作品数：21被引量：49H指数：4
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气体流量对TYUT型MPCVD装置沉积大面积金刚石膜的影响被引量：2
《人工晶体学报》2016年第10期2359-2363,共5页郑可 钟强 高洁 黑鸿君 申艳艳 刘小萍 贺志勇 于盛旺 
国家自然科学基金(51474154;11405114;51601124);山西省回国留学人员科研资助项目(2015-034)
使用自行研制的频率为2.45 GHz的TYUT型MPCVD装置,以H2和CH4为气源,在功率为8 k W、基片温度为1000℃、气体流量为100-800 sccm条件下,进行了直径为65 mm的大面积金刚石膜的沉积实验。使用扫描电镜、X射线衍射仪、数字千分尺和Raman光...
关键词：气体流量 MPCVD 金刚石膜 均匀性 晶粒取向 品质 
气体进出方式对MPCVD大面积金刚石膜均匀性的影响被引量：1
《人工晶体学报》2016年第4期906-912,共7页钟强 黑鸿君 李晓静 张阿莉 申艳艳 刘小萍 于盛旺 
山西省自然科学基金(2013011012-4);浙江省公益技术应用项目(2014C31113);宁波市自然科学基金项目(2014A610012);国家自然科学基金(51474154;11405114)
使用自行研制的MPCVD装置,在功率为8 k W条件下、气体由四种方式进出反应腔体时,在直径65 mm的Si基片上制备了金刚石膜。分别利用数字千分尺和Raman光谱对金刚石膜的厚度和品质均匀性进行了表征。使用Comsol软件模拟了不同进出气方式下...
关键词：气体进出方式 MPCVD 金刚石膜 均匀性 流场模拟 
MPCVD装置基片台改进对金刚石薄膜均匀性的影响被引量：1
《硬质合金》2014年第5期297-301,共5页田宇迪 汪建华 胡晖 翁俊 
通过对实验室自主研发的10 k W新型微波等离子体装置基片台的改进,获得了更高的基片温度,更长的保温时间以及更均匀的基片温度。用直径为80 mm的硅片在改进后的基片台上用MPCVD法沉积大面积金刚石膜。在微波功率为5 k W,沉积气压为5.6 k...
关键词：基片台改进 大面积金刚石膜 MPCVD 金刚石薄膜均匀性 
大面积金刚石膜生长过程中的缺陷和内应力被引量：4
《武汉工程大学学报》2012年第6期38-41,共4页汪建华 刘鹏飞 熊礼威 刘繁 江川 苏含 
国家自然科学基金(No.11175137);武汉工程大学科学研究基金(No.11111051)
采用甲烷和氢气作为气源,在直径为50 mm的抛光单晶硅片上,利用新型微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置制备出金刚石膜.用扫描电子显微镜观测金刚石膜的表面形貌,利用激光Raman光谱表征金刚石膜的质量以及X射线衍射检测金刚石膜的成分...
关键词：金刚石膜 微波等离子体 化学气相沉积 内应力 
基于最优加权的大面积金刚石膜衬底温度数据融合研究
《中国机械工程》2011年第14期1676-1679,共4页汪洪波 李宏远 
为保证大面积金刚石镀膜衬底温度均匀,采用多只温度传感器多点测量衬底表面温度。为滤除测量噪声,采用最优加权融合方法对每一时刻多只传感器测量的温度进行数据融合,并分别采用最小二乘、Bayes估计、递推最小二乘法进行第二步数据融合...
关键词：大面积镀膜 温度测量 数据融合 最优加权 
椭球谐振腔式MPCVD装置高功率下大面积金刚石膜的沉积被引量：6
《人工晶体学报》2011年第5期1145-1149,共5页于盛旺 范朋伟 李义锋 刘艳青 唐伟忠 
国家自然科学基金(10675017)
使用自行研制的椭球谐振腔式MPCVD装置,以H2-CH4为气源,在输入功率为9 kW,沉积压力为1.7×104 Pa和不同的气体流量条件下制备了金刚石膜。利用扫描电镜、激光拉曼谱对金刚石膜的表面和断口形貌、金刚石膜的品质等进行了表征。实验结果表...
关键词：椭球谐振腔式MPCVD装置 金刚石膜 高功率 气体流量 生长速率 
大面积金刚石膜衬底温度数据融合研究被引量：1
《中国机械工程》2011年第7期839-842,859,共5页汪洪波 
针对大面积金刚石膜衬底温度测量要求精度高、稳定性好的特点,分析了大面积金刚石膜衬底温度多支路测量数据融合的必要性,采用不同数据融合方法对衬底温度采样数据进行数据融合研究。在此基础上,对融合方法的稳健性进行了详细分析。研...
关键词：大面积金刚石膜 衬底温度 数据融合 稳健性 
大面积金刚石膜/Si衬底复合片均匀性研究被引量：2
《金刚石与磨料磨具工程》2010年第5期44-48,共5页张营营 李成明 陈良贤 刘金龙 黑立富 吕反修 
863计划支持项目(2008AA03Z408)
对直流电弧等离子体喷射化学气相沉积技术,在φ76.2 mm的Si衬底上沉积得到的金刚石膜,通过SEM和激光Raman表征其质量均匀性。为缓解金刚石膜/Si复合片的内应力,采用台阶式冷却的方式,对样品在1 050℃进行真空退火处理,使样品内的压应力...
关键词：金刚石膜 均匀性 真空退火 表面粗糙度 
CN200510019473.7 一种抛光大面积金刚石膜的方法和装置
《磨料磨具通讯》2007年第11期36-36,共1页
本发明是一种抛光大面积金刚石膜的方法和装置。该方法是：先利用微波激励产生电子回旋共振等离子体，再利用离开回旋谐振加热将高频功率耦合到等离子体中的离子成分中，
关键词：大面积金刚石膜 电子回旋共振等离子体 装置 抛光 微波激励 离子成分 功率耦合 谐振加热 
等离子体刻蚀处理大面积金刚石薄膜
《微细加工技术》2007年第1期28-31,共4页苟立 郑元元 冉均国 
国家自然科学基金资助项目(10275046)
平整均匀的大面积金刚石膜是其在电子领域工业化应用的前提。采用微波等离子体化学气相沉积装置,分别用氢气、氮气加空气、氧气对大面积金刚石膜进行了等离子体处理,通过表面形貌和电阻率的均匀性表征金刚石膜的均匀性,用电阻率的大小...
关键词：大面积金刚石膜 微波等离子体 等离子体后处理 电阻率 
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