黄美浅

作品数:41被引量:66H指数:4
导出分析报告
供职机构:华南理工大学电子与信息学院更多>>
发文主题:MOSFET跨导轰击界面态氧化膜更多>>
发文领域:电子电信理学自动化与计算机技术电气工程更多>>
发文期刊:《电子元件与材料》《微电子学》《半导体技术》《华南理工大学学报(自然科学版)》更多>>
所获基金:教育部留学回国人员科研启动基金广东省自然科学基金广东省重点攻关基金广东省科技攻关计划更多>>
-

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
条 记 录,以下是1-10
视图:
排序:
聚3-己基噻吩聚合物薄膜晶体管的稳定性被引量:4
《华南理工大学学报(自然科学版)》2010年第5期65-70,共6页刘玉荣 左青云 彭俊彪 黄美浅 
广东省自然科学基金博士启动项目(8451064101000257)
为提高聚合物薄膜晶体管的稳定性,以单晶硅为衬底,二氧化硅为栅介质层,聚3-己基噻吩(P3HT)薄膜为半导体活性层,金属Au为源、漏电极,制备出聚合物薄膜晶体管(PTFT),对该器件的电特性进行了表征,研究了该器件在空气环境下的稳定性,并对该...
关键词:薄膜晶体管 聚3-己基噻吩 稳定性 钝化 
GaAs MESFET的热电子应力退化被引量:6
《电子产品可靠性与环境试验》2005年第6期32-35,共4页朱炜容 黄云 黄美浅 钮利荣 
进行GaAs MESFET的热电子应力试验,在24V≤V_(DS)≤28V,-5.5V≤V_(CS)≤-4V 的应力条件下,热电子效应将导致 GaAs MESFET 直流参数的严重退化。退化模式主要表现为饱和漏电流 I_(DSS)减小,跨导 g_m 减小, 夹断电压 V_P 增大,击穿电压...
关键词:砷化镓 金属-半导体场效应晶体管 热电子效应 界面态 退化 
不同沟道长度对n沟MOSFET退化特性的影响被引量:1
《微电子学》2005年第5期449-452,共4页黄美浅 朱炜玲 章晓文 陈平 李观启 
研究不同沟道长度n沟道MOS场效应晶体管的热载流子效应对其退化特性的影响。实验结果表明,随着器件沟道长度的减小,其跨导退化明显加快,特别是当沟道长度小于1 mm时更是如此。这些结果可以用热载流子注入后界面态密度增加来解释。
关键词:MOS场效应晶体管 热载流子效应 阈值电压 跨导 退化特性 
携带气体对二氧化硅干法刻蚀的影响被引量:4
《微电子学》2005年第5期456-460,共5页敬小成 黄美浅 姚若河 
文章研究了采用氩气和氦气作携带气体时气体流量对刻蚀速率、均匀性和选择比等主要刻蚀参数的影响。实验结果表明,当采用氩气作携带气体时,其流量选择在氩气∶刻蚀气体≈1∶1时,刻蚀结果优化;当选择氦气作携带气体时,其流量选择在氦气...
关键词:半导体工艺 氩气 氦气 干法刻蚀 等离子体 
硅衬底Ba_(1-x)Sr_xNb_yTi_(1-y)O_3薄膜光敏特性的研究被引量:2
《应用光学》2005年第5期45-49,共5页宋清 黄美浅 李观启 
利用硅平面工艺和氩离子束镀膜技术在SiO2/Si衬底上淀积一层厚45nm的钛铌酸锶钡(Ba1-xSrxNbyTi1-yO3)薄膜,制成Al/Ba1-xSrxNbyTi1-yO3/SiO2/Si结构平面型薄膜电阻器。测试了该薄膜电阻器的吸收光谱,不同照度、电压下的光电流,调制光下...
关键词:钛铌酸锶钡薄膜 光敏特性 吸收光谱 频率特性 薄膜电阻器 硅衬底 铌酸锶钡 SiO2 光照特性 禁带宽度 
利用背面Ar^+轰击改善n-MOSFET饱和区特性
《华南理工大学学报(自然科学版)》2005年第2期70-74,共5页陈平 黄美浅 李旭 李观启 
用550eV的低能量Ar+离子束轰击n MOSFET(n沟金属-氧化物-半导体场效 应晶体)芯片的背面,以改善其饱和区的直流特性(如跨导、阈值电压和表面有效迁移率) 以及低频噪声等.结果表明,随着轰击时间的增加,跨导和沟道表面有效迁移率...
关键词:背面Ar^+轰击 金属-氧化物-半导体场效应晶体管 跨导 阈值电压 噪声 
结构参数对Ba_(1-x)La_xTiO_3多功能传感器敏感特性的影响
《固体电子学研究与进展》2005年第1期138-141,共4页李斌 李观启 黄美浅 刘玉荣 陈平 
对三种二氧化硅层厚度 (1 0 nm、2 5 nm、40 nm)的器件进行测试 ,研究二氧化硅层的厚度对 Ba1 - x Lax Ti O3多功能传感器敏感特性的影响。结果表明 ,对于 MIS电容传感器 ,氧化层越薄 ,湿敏灵敏度越高 ,湿滞越小 ;相反 ,对于薄膜电阻传...
关键词:钛酸镧钡薄膜 湿敏 光敏 
氧气氛退火对BST薄膜电阻热敏特性的影响
《电子元件与材料》2004年第12期51-53,共3页刘玉荣 李观启 罗坚 李斌 黄美浅 
利用氩离子束镀膜技术在 SiO2/Si 衬底上淀积 BST 薄膜,研究了氧气氛下退火对 BST 薄膜热敏特性的影响。结果表明,当退火温度不太高时(≤600℃),薄膜热敏特性随退火温度升高而变差;但当退火温度较高时(>600℃),薄膜热敏特性随退火温度...
关键词:无机非金属材料 BST薄膜 NTC热敏电阻 热敏特性 退火处理 
薄膜厚度对钛酸钡类薄膜传感器敏感特性的影响被引量:1
《电子元件与材料》2004年第10期30-32,共3页李斌 李观启 黄美浅 刘玉荣 陈平 
利用氩离子束溅射技术,分别在SiO2/Si衬底上淀积了0.5 mm、1 mm和2 mm的Ba1-xLaxNbyTi1–yO3薄膜,并探讨了薄膜厚度对MIS电容湿敏特性的影响以及薄膜厚度对薄膜电阻的光敏和热敏特性的影响。实验结果表明:0.5 mm膜厚的MIS电容传感器具有...
关键词:电子技术 钛酸钡薄膜 湿敏 光敏 热敏 薄膜厚度 
氧退火对Ba_(1-x)Sr_xTiO_3薄膜电荷存储特性的影响
《华南理工大学学报(自然科学版)》2004年第8期13-17,共5页陈平 黄美浅 李斌 李观启 
教育部留学回国人员科研启动基金资助项目 ;华南理工大学自然科学基金资助项目
采用氩离子束镀膜技术和硅平面工艺 ,在经过干氧氧化的硅衬底上制备一层钛酸锶钡 (Ba1-xSrxTiO3)薄膜 ,再在氧气氛中进行不同条件的退火处理 ,然后蒸铝并利用光刻技术制作铝电极 ,从而形成金属 -绝缘体 -氧化物 -半导体 (MIOS)双介质电...
关键词:Ba1-xSrxTiO3薄膜 电荷存储特性 MIOS结构 退火 氧空位 陷阱 
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部