反应离子

作品数：373被引量：643H指数：11
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用于E型薄膜制备的双掩膜工艺研究
《压电与声光》2024年第4期505-510,共6页郝一鸣 雷程 王涛龙 余建刚 冀鹏飞 闫施锦 梁庭 
国家重点研发计划资助项目(2023YFB3209100);中央引导地方科技发展资金资助项目(YDZJSX20231B006);山西省重点研发计划资助项目(202302030201001)。
在高温压力传感器中,与C型膜片相比,E型膜片的稳定性强,非线性误差小,相同挠度下灵敏度高。在微机电系统(MEMS)工艺流程中薄膜制备较重要,其形貌结构对传感器的性能影响较大。但E型薄膜的制备过程较难,为制备出形貌良好的E型(硅岛)薄膜...
关键词：双掩膜 E型薄膜 深反应离子刻蚀 刻蚀比 刻蚀形貌 
在非晶硅上制备角度可控缓坡的方法
《压电与声光》2018年第5期670-673,共4页秦康宁 张根 杨泰 钟慧 蒋欣 杜波 马晋毅 
国家自然基金资助项目(61471086);中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室开发基金课题项目(2014KZ001)
介绍了一种利用光的衍射原理制备角度可控缓坡微结构的方法。该方法在光刻步骤中通过调节掩膜板与基片之间的垂直距离来控制光刻胶图形边缘曝光量,光刻显影后得到剖面为正梯形的光刻胶图形,再经过干法刻蚀得到非晶硅的缓坡微结构。结果...
关键词：正胶 光刻 非晶硅 干法刻蚀 反应离子刻蚀 
PZT铁电薄膜的反应离子刻蚀研究
《压电与声光》2011年第3期464-466,471,共4页束平 王姝娅 张国俊 戴丽萍 翟亚红 王刚 钟志亲 曹江田 
国家"八六三"计划基金资助项目(2002AA404500);国家"九七三"计划基金资助项目(G1999033105)
介绍了一种刻蚀效果良好的PZT铁电薄膜反应离子刻蚀方法。利用深反应离子刻蚀设备研究了反应离子刻蚀中刻蚀气氛、刻蚀功率及刻蚀气体流量等因素对PZT薄膜刻蚀效果的影响。实验结果表明,刻蚀气体采用SF6、刻蚀功率为250 W、SF6/Ar总流量...
关键词：PZT薄膜 光刻胶 深反应离子刻蚀 刻蚀速率 铁电电容 
PZT薄膜的深槽反应离子刻蚀研究
《压电与声光》2011年第1期133-135,共3页张娅 杨成韬 翟亚红 赵鹏 
研究了锆钛酸铅(PZT)薄膜的深槽反应离子刻蚀(DRIE)技术。首先,对比了3种工艺气氛条件下(SF6/Ar、CF4/Ar和CHF3/Ar)刻蚀PZT的效果。实验结果表明,3种工艺气氛下,刻蚀速率都随功率的增加而增加。相同功率下,SF6/Ar的刻蚀速率最高;而CHF3...
关键词：深槽反应离子刻蚀(DRIE) 锆钛酸铅(PZT) 刻蚀速率 
基于金刚石薄膜的微间隙室制备被引量：2
《压电与声光》2006年第6期692-695,共4页王芸 龙沪强 侯中宇 徐东 谢宽仲 蔡炳初 卞建江 
国家自然科学基金资助项目(60202008)
采用金刚石薄膜作为阴-阳极间绝缘介质层是一种新型的微间隙室（MGC）结构。该文详细介绍和讨论了采用常规的微细加工工艺制备基于金刚石薄膜介质层的MGC的制备技术，其典型结构为阳极微条宽20μm，微条间隔180μm，器件探测区面积为38m...
关键词：微间隙室 金刚石薄膜 反应离子刻蚀 热丝CVD 
SU-8光刻胶氧刻蚀的研究被引量：2
《压电与声光》2006年第5期591-593,共3页段炼 朱军 陈迪 刘景全 
国家重点实验室基金资助项目(51485030105JW0801)
采用氧气反应离子刻蚀(RIE)SU-8光刻胶,以获得三维SU-8微结构(如斜面)。实验采用套刻、溅射、湿法腐蚀、电镀等技术实现光刻胶上镍掩膜图形化。分别研究氧气气压、射频(RF)功率、氧气流量对刻蚀速率的影响,并对实验结果进行了理论分析,...
关键词：SU-8光刻胶 反应离子刻蚀(RIE) 氧气 
BST薄膜的反应离子刻蚀研究
《压电与声光》2006年第1期64-66,共3页史鹏 姚熹 
国家科技部"九七三"计划基金资助项目(2002CB613305);中国-以色列国际合作基金资助项目
钙钛矿结构的钛酸锶钡(BST)薄膜作为优良的介电、铁电材料在新一代的微机械系统(MEMS)、动态存储器(DRAM)及其他器件上的广泛应用,使得BST薄膜的刻蚀特性越来越重要。该文利用反应离子刻蚀装置,研究了溶胶-凝胶工艺制备的钛酸锶钡薄膜在...
关键词：钛酸锶钡(BST) 薄膜 反应离子刻蚀 CHF3 
声表面波器件制作中的干法刻蚀工艺被引量：4
《压电与声光》2005年第6期711-713,共3页王祥邦 李勇 陈培棣 
声表面波器件广泛应用于有线和无线通讯中。利用半导体加工工艺制作声表面波器件,由于所使用的工艺的特殊性,并不能完全按照硅工艺。该文讲述了用干法刻蚀工艺制作声表面波器件及其工艺特殊性。
关键词：反应离子刻蚀 压电材料 叉指换能器 
微观结构对PZT薄膜反应离子刻蚀的影响被引量：1
《压电与声光》2005年第4期415-417,共3页史鹏 张良莹 姚熹 
上海市重点学科建设基金资助项目
随着锆钛酸铅(PZT)薄膜在铁电微器件中的广泛应用,薄膜微图形化和刻蚀的研究也日益受到重视。研究表明在薄膜的刻蚀过程中,薄膜表面的微观结构和等离子体都对刻蚀有很大的影响。该文研究了具有不同微观结构的薄膜的反应离子刻蚀特性。...
关键词：锫钛酸铅 薄膜 反应离子刻蚀 微观结构 
商品有机玻璃片微结构的深刻蚀研究被引量：1
《压电与声光》2003年第3期249-251,共3页黄龙旺 杨春生 丁桂甫 
国家自然科学基金资助项目(50075055)
研究应用O2反应离子刻蚀(RIE)直接深刻蚀商用有机玻璃(PMMA)片,以实现微结构的三维微加工,工艺简单,加工成本较低,为微器件的高深宽比加工提出了新方法。试样采用Ni作掩膜,以普通的光刻胶曝光技术和湿法刻蚀法将Ni掩膜图形化。工作气压...
关键词：有机玻璃 反应离子刻蚀 微结构 PMMA 刻蚀参数 刻蚀速率 刻蚀形貌 
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